Производство Российского литографа на советской основе.
Несколько дней назад ведущие технологические издания планеты сообщали о важном прорыве, достигнутом китайской полупроводниковой промышленностью. Как выяснилось, Huawei не только смогла выдержать санкционное давление со стороны США, но и почти вернулась к доходам, зафиксированным в 2020 году. Китайская компания чувствует себя уверенно, активно осваивая совершенно новые для себя направления. При этом успехи в некоторых сегментах особенно заметны, вызывая у американских аналитиков панику. В 2023 Huawei перешла к выпуску смартфонов на базе собственного процессора серии Kirin. В настоящее время чип выпускается на базе 7-нм норм, но эксперты пишут, что в 2025 SMIC готовит полномасштабный переход на 5-нм технологический процесс.
Таким образом удастся значительно улучшить энергоэффективность, скорость и другие показатели. Выход годных чипов остаётся невысоким, не превышая 30%, но разработчики надеются и здесь добиться заметного прорыва. Но всё это продукты, выпущенные на безе иностранного оборудования. Известно, что правительство Поднебесной поставило перед полупроводниковыми гигантами задачу создания собственных аналогов, а работа идёт уже несколько лет. До серийного выпуска ещё далеко, но аналитики не сомневаются, что со временем Китай догонит тайваньскую TSMC. Пока же можно констатировать, что санкции со стороны США продолжат становиться более агрессивными, оставляя местным компаниям всё меньше времени. Ну а поскольку Россия столкнулась с полномасштабными санкциями ещё в 2022 году, то власти приняли решение инвестировать в национальную полупроводниковую отрасль. Был создан план, согласно которому к 2030 в стране должны появиться технологии, способные выпускать чипы по 28-нм и даже 14-нм нормам. Неясно, как санкции на всё это повлияли, но в прессе пишут, что российские инженеры не сидят без дела, двигаясь к поставленной цели.
Ясно, что создать литограф, который будет способен выпускать чипы по 22-нм техпроцессу с нуля невозможно. Требуется не только соответствующее оборудование, но и опытные специалисты. Кроме того, обязательно наличие химических составов, аналоги которых запрещены в РФ уже несколько лет. Список необходимых компонентов длинный, а в итоге без освоения промежуточных стадий производства не обойтись. Как стало известно, в России был создан полностью отечественный литограф, который может выпускать полноценный чипы по 350-нм нормам. Проект был реализован Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) совместно с белорусской компанией ОАО «Планар». Сама технология не поражает воображение рядовых пользователей и сильно уступает аналогам нидерландской ASML. Согласно опубликованным деталям, литограф получил название «установка совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм». Даже иностранные эксперты признают, что появление подобного оборудования можно назвать важным шагом на пути к достижению технологического суверенитета. Литограф уже прошёл все ключевые тесты и в настоящее время идёт его адаптация к требованиям, выдвигаемым конечными производителями.
Одновременно с этим происходит заключение контрактов, поскольку серийные поставки не за горами. Знакомые с деталями разработки специалисты пишут, что литограф обладает рядом ключевых преимуществ. По сравнению с предыдущими аналогами значительно увеличена рабочая область: с 3.2×3.2-мм до 22×22-мм. Также возрос максимальный диаметр обрабатываемых пластин. Известно, что он составляет 220-мм, хотя ещё не так давно не превышал 150-мм. Ключевым новшеством называется успешная замена традиционных ртутных ламп на твердотельный лазер, обеспечивающий более узкий спектр излучения, повышенную мощность и энергоэффективность. Для сравнения, ведущий мировой производитель литографического оборудования (речь об указанной выше ASML) использует разные источники излучения в зависимости от технологического процесса. Например, для 350-нм норм применяются ртутные лампы, для 250-нм в ход идут эксимерные лазеры на основе фторида криптона (248-нм), а для более продвинутых техпроцессов, таких, как 130-нм, уже используется технология на основе ультрафиолета (DUV) на базе фторида аргона (193-нм). В российской же установке впервые сделана ставка на твердотельные лазеры, которые ранее использовались в основном для диагностики и обработки пластин, но не для самого процесса литографии.
Несмотря на то, что 350-нм технологические нормы не соответствуют передовым стандартам мирового рынка, они всё ещё востребованы в силовой электронике, автомобильной промышленности и оборонном секторе. Такая технология позволяет решить проблемы выпуска кредитных карт, потребительских чипов для простых электронных устройств и другой продукции. Отмечается, что ещё до того, как 350-нм литограф начал проходить тесты, команда разработчиков перешла к работе над новым проектом, позволяющим выпускать чипы на базе 130-нм норм. Точные сроки реализации проекта не указываются, а в итоге ранее опубликованная дорожная карта остаётся не подтверждённой. Напомним, выпускающие чипы российские компании «Ангстрем» и «Микрон» работают с литографиями, выпускающими продукцию на базе 250-нм и 90-нм техпроцессов. Вот только задача решается за счёт иностранного оборудования, тогда как отечественный литограф позволяет добиться суверенитета в ключевых областях. Западные эксперты пишут, что освоение 28-нм норм к 2027 году на фоне подобных новостей кажется неосуществимой задачей, но в данном случае гадать нет никакого смысла.